Китайская Semiconductor Manufacturing International Corporation (SMIC), крупнейший производитель полупроводников в стране, достигла значимого успеха, освоив производство чипов по 5-нм техпроцессу без использования технологий экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV). Это достижение может кардинально изменить ситуацию в мировой полупроводниковой отрасли, сообщает GizmoChina.
Вместо EUV SMIC использовала устаревшие технологии глубокой ультрафиолетовой литографии (DUV) в сочетании с сложным процессом, известным как самосовмещенное четырехкратное формирование рисунка (SAQP). Этот технологический успех был подробно описан полупроводниковым аналитиком Уильямом Хоу в его публикациях в соцсети X (ранее Twitter). Достижение SMIC имеет не только технологическое, но и важное геополитическое значение. На протяжении многих лет считалось, что литография EUV, которая производится исключительно нидерландской компанией ASML, является ключевой для создания чипов на уровне 5 нм и ниже. Из-за экспортных ограничений, введенных США и их союзниками, которые лишили SMIC доступа к системам EUV, большинство экспертов полагали, что китайские амбиции в области передовых чипов будут ограничены 7-нм нормами.
Тем не менее, SMIC продолжила исследовать возможности DUV-технологий и смогла максимально эффективно использовать имеющееся оборудование. По словам Хоу, это потребовало реализации множества этапов литографии и травления, включая использование SAQP для имитации точности EUV. Этот процесс хоть и медленнее и дороже, но продемонстрировал свою работоспособность.
В результате SMIC разработала функционирующий 5-нм чип, который уже используется в устройствах, таких как смартфон Huawei Mate 60 на базе процессора Kirin 9000S. Таким образом, SMIC, очевидно, продемонстрировала свою способность достигать высоких норм техпроцесса, несмотря на отсутствие доступа к современному оборудованию, что является важным шагом для китайской полупроводниковой индустрии.
Кроме того, недавно появились первые подробности об iPhone 20. Что вы об этом думаете?